「ダイオキシン類特別措置法」に定められた基準において、ダイオキシンを採取します。
ダイオキシンは焼却炉、溶解炉などから排出される排ガス（ばいじんなど）だけでなく、排水、土壌、底質等にも含まれている可能性があります。
弊社のサービスは大気測定を中心に、ダイオキシンが含まれている可能性がある上記調査も同時に承っております。
ダイオキシンとは一般に、コプラナーポリ塩化ビフェニル（Co-PCB 12種類）、ポリ塩化ジベンゾ－パラ－ジオキシン（PCDD 75種類）、ポリ塩化ジベンゾフラン（PCDF 135種類）計222種類を総してそう呼ばれています。このうちの29種類の物質に毒性があるとされいます。
ダイオキシンは人体の成長や生殖機能に悪影響を及ぼす環境ホルモン（内分泌撹乱化学物質）とされており、現在「ダイオキシン類特別措置法」他関係法令により、様々な環境基準と排出基準が定められています。
ダイオキシン類対策特別措置法では、ばいじん等（ばいじん及び焼却灰その他の燃え殻をいう。） に含まれるダイオキシン類の量に係る基準及びダイオキシン類による環境汚染防止の観点からの最終処分場の 維持管理基準を設定することとされています。
| 大気基準適用施設 | 新設施設 | 既設施設 | ||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 番号 | 施設の種類 | 規模 | H12.1～H13.1 | H13.1～H14.1 | H14.12～ | |
| 1 | 焼結鉱の製造の用に供する焼結炉 | 原料の処理能力1t/h以上 | 0.1 | 基準の適用を猶予 | 2 | 1 |
| 2 | 製鋼の用に供する電気炉 | 変圧器定格容量1000KVA以上 | 0.5 | 20 | 5 | |
| 3 | 亜鉛の回収の用に供する焙焼炉、焼結炉、溶鉱炉、溶解炉及び乾燥炉 | 原料の処理能力0.5t/h以上 | 1 | 40 | 10 | |
| 4 | ｱﾙﾐﾆｳﾑ合金の製造の用に供する焙焼炉、乾燥炉 (同 溶解炉) |
原料の処理能力0.5t/h以上 (容量1t以上) |
1 | 20 | 5 | |
| 5 | 廃棄物焼却炉（合算値：火床面積ｍ２以上又は焼却能力50kg/h以上) | 4t/h以上 | 0.1 | 80 | 1 | |
| 2～4t/h | 1 | 5 | ||||
| 2t/h未満 | 5 | 10 | ||||
| 番号 | 水質基準対象施設 | 水質排出基準 |
| 1 | 硫酸塩パルプ（クラフトパルプ）又は亜硫酸パルプ（サルファイトパルプの製造の用に供する塩素又は塩素化合物による漂白施設 | 10 |
| 2 | カーバイド法アセチレンの製造の用に供するアセチレン洗浄施設 | |
| 3 | 硫酸カリウムの製造の用に供する施設のうち、廃ガス洗浄施設 | |
| 4 | アルミナ繊維の製造の用に供する施設のうち、廃ガス洗浄施設 | |
| 5 | 担体付き触媒の製造（塩素又は塩素化合物を使用するものに限る。）の用に供する焼成炉から発生するガスを処理する施設のうち、廃ガス洗浄施設 | |
| 6 | 塩化ビニルモノマーの製造の用に供する二塩化エチレン洗浄施設 | |
| 7 | カプロラクタムの製造（塩化ニトロシルを使用するものに限る。）の用に供する施設のうち、次に掲げるもの イ.硫酸濃縮施設 ロ.シクロヘキサン分離施設 ハ.廃ガス洗浄施設 |
|
| 8 | クロロベンゼン又はジクロロベンゼンの製造の用に供する施設のうち、次に掲げるもの イ.水洗施設 ロ.廃ガス洗浄施 |
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| 9 | 4-クロロフタル酸水素ナトリウムの製造の用に供する施設のうち、次に掲げるもの イ.ろ過施設 ロ.乾燥施設 ハ.廃ガス洗浄施設 |
|
| 10 | 2・3-ジクロロ-1・4-ナフトキノンの製造の用に供する施設のうち、次に掲げるもの イ.ろ過施設 ロ.廃ガス洗浄施設 |
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| 11 | 8･18－ジクロロ－5･15－ジエチル－5･15－ジヒドロジインドロ［3･2－b：3’･2’－m］トリフェノジオ キサジン（別名ジオキサジンバイオレット）の製造の用に供する施設のうち、次に掲げるもの イ.ニトロ化誘導体分離施設及び還元誘導体分離施設 ロ.ニトロ化誘導体洗浄施設及び還元誘導体洗浄施設 ハ.ジオキサジンバイオレット洗浄施設 ニ.熱風乾燥施設 |
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| 12 | アルミニウム又はその合金の製造の用に供する焙焼炉、溶解炉又は乾燥炉から発生するガスを処理する施設のうち、次に掲げるもの イ.廃ガス洗浄施設 ロ.湿式集じん施設 |
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| 13 | 亜鉛の回収（製鋼の用に供する電気炉から発生するばいじんであって、集じん機により集められたもの からの亜鉛の回収に限る。）の用に供する施設のうち、次に掲げるもの イ.精製施設 ロ.廃ガス洗浄施設 ハ.湿式集じん施設 |
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| 14 | 担体付き触媒（使用済みのものに限る。）からの金属の回収（ソーダ灰を添加して焙焼炉で処理する
方法及びアルカリにより抽出する方法（焙焼炉で処理しないものに限る。）によるものを除く。）の用に供する施設のうち、次に揚げるもの イ.ろ過施設 ロ.精製施設 ハ.廃ガス洗浄施設 |
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| 15 | 廃棄物焼却炉から発生するガスを処理する施設のうち次に掲げるもの及び当該廃棄物焼却炉において 生ずる灰の貯留施設であって汚水又は廃液を排出するもの イ.廃ガス洗浄施設 ロ.湿式集じん施設 |
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| 16 | 廃棄物の処理及び清掃に関する法律施行令第7条第12号の2及び13号に掲げる施設 【廃PCB等又はPCB処理物の分解施設PCB汚染物又はPCB処理物の洗浄施設】 |
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| 17 | フロン類（特定物質の規制等によるオゾン層の保護に関する法律施行令（平成6年政令第308号）別 表1の項、3の項及び6の項に掲げる特定物質をいう。）の破壊（プラズマを用いて破壊する方法 その他環境省令で定める方法によるものに限る。）の用に供する施設のうち、次に掲げるもの イ.プラズマ反応施設 ロ.廃ガス洗浄施設 ハ.湿式じん施設 |
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| 18 | 下水道終末処理施設（１から前号まで及び次号に掲げる施設に係る汚水又は廃液を含む下水を処理するものに限る。） | |
| 19 | 1から17までに掲げる施設を設置する工場又は事業場から排出される水の処理施設 |
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